Titanium Sputtering Target ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
เป้าหมายการสปัตเตอร์ไททาเนียมใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสะสมของฟิล์มบางบนเวเฟอร์ซิลิคอนฟิล์มบางนี้ใช้ในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เช่น ทรานซิสเตอร์ ไดโอด และวงจรรวมต่อไปนี้เป็นวิธีการเฉพาะบางประการเป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์:
อิเล็กโทรดเกต: ไททาเนียมสปัตเตอริงเป้าหมายใช้เพื่อติดฟิล์มบางๆ ของไททาเนียมลงบนซิลิคอนเวเฟอร์เพื่อสร้างเกตอิเล็กโทรดในทรานซิสเตอร์เอฟเฟกต์ภาคสนามของโลหะ-ออกไซด์-สารกึ่งตัวนำ (MOSFET)อิเล็กโทรดเกตเหล่านี้ใช้เพื่อควบคุมการไหลของกระแสไฟฟ้าใน MOSFET
การเชื่อมต่อระหว่างกัน: เป้าหมายสปัตเตอริงไทเทเนียมใช้เพื่อติดฟิล์มบางของไททาเนียมลงบนเวเฟอร์ซิลิคอนเพื่อสร้างการเชื่อมต่อระหว่างกันในวงจรรวมการเชื่อมต่อระหว่างกันเหล่านี้ใช้เพื่อเชื่อมต่อส่วนประกอบต่างๆ ของวงจรรวม และจำเป็นต่อการทำงาน
อุปสรรคการแพร่กระจาย: เป้าหมายสปัตเตอริงไทเทเนียมใช้เพื่อเคลือบฟิล์มบางของไททาเนียมไนไตรด์ (TiN) ลงบนซิลิคอนเวเฟอร์เพื่อสร้างอุปสรรคการแพร่กระจายในวงจรรวมสิ่งกีดขวางการแพร่กระจายเหล่านี้ใช้เพื่อป้องกันการแพร่กระจายของโลหะเข้าไปในซิลิกอน ซึ่งอาจทำให้ประสิทธิภาพการทำงานลดลงและความล้มเหลวของวงจรรวม
จำหลักหน้ากาก: เป้าหมายสปัตเตอร์ไททาเนียมใช้เพื่อติดฟิล์มบาง ๆ ของไททาเนียมลงบนเวเฟอร์ซิลิคอนเพื่อสร้างมาสก์จำหลักมาสก์จำหลักเหล่านี้ใช้เพื่อป้องกันพื้นที่เฉพาะของซิลิคอนเวเฟอร์ในระหว่างกระบวนการกัด ซึ่งใช้เพื่อสร้างรูปแบบและคุณสมบัติเฉพาะในวงจรรวม
สรุป,เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมเป็นวัสดุที่จำเป็นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และใช้สำหรับการใช้งานที่หลากหลาย รวมถึงเกตอิเล็กโทรด การเชื่อมต่อระหว่างกัน สิ่งกีดขวางการแพร่กระจาย และหน้ากากกัดกรด