ทิตาเนียม SS 304 PVD ผิวเคลือบเป้าหมายการกระจาย 100 * 40mm 95 * 45mm 98 * 10mm สําหรับอุตสาหกรรม

คำอธิบาย

เป้าหมายการสปัตเตอร์คือวัสดุที่ใช้ในการปลูกฟิล์มบางโดยใช้วิธีการสปัตเตอร์ เป้าหมายเหล่านี้ถูกผลิตขึ้นโดยการแปรรูปโลหะหรือเซรามิก
เรามีผลิตภัณฑ์เป้าหมายการสปัตเตอร์ในวัสดุ ความบริสุทธิ์ และรูปร่างที่หลากหลาย โดยการรวมเทคโนโลยีขั้นสูงในการหลอม การเผาผนึก การสังเคราะห์ และการแปรรูปเชิงกลที่แม่นยำ

วิธีการผลิตและการปรับแต่งสามารถเลือกได้ตามการใช้งานและความต้องการของคุณ เป้าหมายแต่ละชิ้นผลิตขึ้นโดยใช้กระบวนการที่เหมาะสมที่สุดเพื่อให้มั่นใจถึงประสิทธิภาพและคุณภาพสูงสุด

ข้อมูลจำเพาะ

การประยุกต์ใช้งาน

เป้าหมายไทเทเนียม

เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายสำหรับการเคลือบเครื่องมือฮาร์ดแวร์ การเคลือบตกแต่ง ส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ และการเคลือบจอแสดงผลแบบแบน
เป็นวัสดุหลักในการผลิตวงจรรวม โดยต้องการความบริสุทธิ์โดยทั่วไปสูงกว่า99.99%.

เป้าหมายอลูมิเนียม

การสปัตเตอร์อะลูมิเนียมมักใช้ในการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบฟิล์มบางเนื่องจากความสามารถรอบด้านและความทนทานต่อความร้อนได้ดีเยี่ยม ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ การบินและอวกาศ และสินค้าอุปโภคบริโภค

เป้าหมายทองแดง

เป้าหมายทองแดงเหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการการนำไฟฟ้าสูง เช่น ขั้วไฟฟ้า สายไฟ และฟิล์มกระจกหน้ารถ

เป้าหมายดีบุก

การสปัตเตอร์ดีบุกช่วยเพิ่มความทนทานต่อการกัดกร่อนและใช้เพื่อปรับปรุงคุณสมบัติพื้นผิวของวัสดุอื่นๆ

เป้าหมายสังกะสี

เป้าหมายสังกะสีถูกนำไปใช้เพื่อความสามารถในการป้องกันการกัดกร่อน โดยทั่วไปใช้ในการผลิตแคโทด แบตเตอรี่ เชื้อเพลิงขับดัน และสี

เป้าหมายโลหะมีค่า (แพลทินัม เงิน ทองคำ)

เป้าหมายเหล่านี้ให้ความเฉื่อยทางเคมีและการนำไฟฟ้าที่โดดเด่น ทำให้เหมาะสำหรับเครื่องมือวัด เซ็นเซอร์ และขั้วไฟฟ้า